主题:  CALM TALK 073 | 光电子能谱与表、界面主讲人:  保秦烨地点:  先进低维材料中心学术交流室（松江校区2号学院楼西2632室）时间:  2018-05-29 13:30:00组织单位:   先进低维材料中心

主讲人简介：保秦烨，1985年出生，华东师范大学极化材料与器件教育部重点实验室，研究员，博导。2015-2016年，担任瑞典林雪平大学表面物理与化学部门助理教授。本、硕毕业于苏州大学功能纳米与软物质研究院，博士毕业于瑞典林雪平大学应用物理系。主要从事基于光电子能谱(UPS/IPES/XPS)与同步辐射X射线吸收谱(NEXAFS)的有机光电器件关键界面电子结构与光电转换机制研究。在Adv. Mater., Adv. Funct. Mater., Adv. Energy. Mater., Adv. Mater. Interfaces, Appl. Phys. Lett.等期刊发表论文30余篇。2016年回国后，主持国家自然科学基金、中国-瑞典国际合作交流项目、江苏省重点实验室开放课题、华师大多功能光电子能谱平台建设专项(600万)等项目。曾获国家海外优秀自费留学生奖(2014), 教育部高等学校自然科学二等奖(第七获奖人，2017)。

内容摘要：通过配备有真空原位薄膜生长和检测装置的高分辨光电子能谱，以及基于同步辐射技术的表/界面技术手段，在超高真空条件下对材料的物理与化学结构、电子态、能级演变、微观聚集形貌等特性进行原位、实时研究，可排除外界环境的干扰，有利于揭示材料结构与性能之间的本质关系。

本报告将介绍UPS/XPS/IPES能谱技术、同步辐射NEXAFS技术，以及我们基于能谱技术在软物质电子材料表/界面物性方面的研究进展。软物质电子材料具有独特的界面物理与化学结构，通过研究有机半导体界面形成机理、电子结构与能量传递、电荷转移过程的构效关系，确立功能调控的物理机制，在此基础上，发展界面调控光电转换过程的新方法，为构筑高效有机光电器件所涉及的材料、器件结构、工作机理、加工工艺等关键物理与技术问题上提供指导。

编辑：孙庆华            撰写：张妮